Bonding configuration and density of defects of SiOxH y thin films deposited by the electron cyclotron resonance plasma method
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- Bohne, W.
- Röhrich, J.
- Selle, B.
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ISSN: 0021-8979
Año de publicación: 2003
Volumen: 94
Número: 12
Páginas: 7462-7469
Tipo: Artículo