Compositional analysis of SiOxNy:H films by heavy-ion ERDA: The problem of radiation damage

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Revista:
Surface and Interface Analysis

ISSN: 0142-2421

Año de publicación: 2002

Volumen: 34

Número: 1

Páginas: 749-753

Tipo: Aportación congreso

DOI: 10.1002/SIA.1403 GOOGLE SCHOLAR

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