Interface quality of high-pressure reactive sputtered and atomic layer deposited titanium oxide thin films on silicon

  1. Dueñas, S.
  2. Castán, H.
  3. García, H.
  4. Barbolla, J.
  5. Andrés, E.S.
  6. Mártil, I.
  7. González-Díaz, G.
  8. Kukli, K.
  9. Aarik, J.
Actes:
2005 Spanish Conference on Electron Devices, Proceedings

ISBN: 9780780388109

Any de publicació: 2005

Volum: 2005

Pàgines: 49-52

Tipus: Aportació congrés

DOI: 10.1109/SCED.2005.1504303 GOOGLE SCHOLAR
Font de les dades: Scopus