In-Diffusion and Annealing Kinetics of Palladium in Silicon

  1. Vicente, J.
  2. Enríquez, L.
  3. Rubio, E.
  4. Bailón, L.
  5. Barbolla, J.
Revista:
Journal of the Electrochemical Society

ISSN: 1945-7111,  0013-4651

Año de publicación: 1993

Volumen: 140

Número: 3

Páginas: 868-870

Tipo: Artículo

DOI: 10.1149/1.2056176 GOOGLE SCHOLAR
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