Conductance transient, capacitance-voltage and deep-level transient spectroscopy characterization of atomic layer deposited hafnium and zirconium oxide thin films

  1. Dueñas, S.
  2. Castán, H.
  3. Barbolla, J.
  4. Kukli, K.
  5. Ritala, M.
  6. Leskelä, M.
Revista:
Solid-State Electronics

ISSN: 0038-1101

Año de publicación: 2003

Volumen: 47

Número: 10

Páginas: 1623-1629

Tipo: Aportación congreso

DOI: 10.1016/S0038-1101(03)00172-2 GOOGLE SCHOLAR
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