Atomistic modeling of B activation and deactivation for ultra-shallow junction formation

  1. Aboy, M.
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  8. Plummer, J.D.
Actas:
International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices, SISPAD

ISBN: 0780378261

Año de publicación: 2003

Volumen: 2003-January

Páginas: 151-154

Tipo: Aportación congreso

DOI: 10.1109/SISPAD.2003.1233659 GOOGLE SCHOLAR
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