Experimental investigation of the electrical properties of atomic layer deposited hafnium-rich silicate films on n-type silicon

1. Dueñas, S.
2. Castán, H.
3. García, H.
4. Bailón, L.
5. Kukli, K.
6. Ritala, M.
7. Leskelä, M.
8. Rooth, M.
9. Wilhelmsson, O.
10. Hårsta, A.