InP surface properties under ICP plasma etching using mixtures of chlorides and hydrides

  1. Liu, B.
  2. Landesman, J.-P.
  3. Leclercq, J.-L.
  4. Rhallabi, A.
  5. Cardinaud, C.
  6. Guilet, S.
  7. Pommereau, F.
  8. Avella, M.
  9. González, M.A.
  10. Jiménez, J.
Revista:
Materials Science in Semiconductor Processing

ISSN: 1369-8001

Año de publicación: 2006

Volumen: 9

Número: 1-3

Páginas: 225-229

Tipo: Artículo

DOI: 10.1016/J.MSSP.2006.01.064 GOOGLE SCHOLAR
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