Comparative study of flatband voltage transients on high-k dielectric-based metal-insulator-semiconductor capacitors

  1. Dueñas, S.
  2. Castán, H.
  3. García, H.
  4. Gómez, A.
  5. Bailón, L.
  6. Kukli, K.
  7. Aarik, J.
  8. Ritala, M.
  9. Leskelä, M.
Revista:
Journal of the Electrochemical Society

ISSN: 0013-4651

Año de publicación: 2008

Volumen: 155

Número: 11

Tipo: Artículo

DOI: 10.1149/1.2975828 GOOGLE SCHOLAR