Atomic layer deposition and properties of ZrO2/Fe2O3 thin films

  1. Kalam, K.
  2. Seemen, H.
  3. Ritslaid, P.
  4. Rähn, M.
  5. Tamm, A.
  6. Kukli, K.
  7. Kasikov, A.
  8. Link, J.
  9. Stern, R.
  10. Dueñas, S.
  11. Castán, H.
  12. García, H.
Revista:
Beilstein Journal of Nanotechnology

ISSN: 2190-4286

Año de publicación: 2018

Volumen: 9

Número: 1

Páginas: 119-128

Tipo: Artículo

DOI: 10.3762/BJNANO.9.14 GOOGLE SCHOLAR lock_openAcceso abierto editor
Fuente de los datos: Scopus