Atomic layer deposition and performance of ZrO2-Al2O3 thin films

  1. Kukli, K.
  2. Kemell, M.
  3. Castán, H.
  4. Dueñas, S.
  5. Seemen, H.
  6. Rähn, M.
  7. Link, J.
  8. Stern, R.
  9. Heikkilä, M.J.
  10. Ritala, M.
  11. Leskelä, M.
Revista:
ECS Journal of Solid State Science and Technology

ISSN: 2162-8777,  2162-8769

Any de publicació: 2018

Volum: 7

Número: 5

Pàgines: P287-P294

Tipus: Article

DOI: 10.1149/2.0021806JSS GOOGLE SCHOLAR
Font de les dades: Scopus