Critical issues in ion implantation of silicon below 5 keV: Defects and diffusion
- Agarwal, A.
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- Pelaz, L.
- Jacobson, D.C.
- Poate, J.M.
- Haynes, T.E.
ISSN: 0921-5093
Datum der Publikation: 1998
Ausgabe: 253
Nummer: 1-2
Seiten: 269-274
Art: Artikel