Boron-Enhanced-Diffusion of boron: The limiting factor for ultra-shallow junctions
- Agarwal, Aditya
- Eaglesham, D.J.
- Gossmann, H.-J.
- Pelaz, L.
- Herner, S.B.
- Jacobson, D.C.
- Haynes, T.E.
- Erokhin, Y.
- Simonton, R.
Konferenzberichte:
Technical Digest - International Electron Devices Meeting, IEDM
ISSN: 0163-1918
Datum der Publikation: 1997
Seiten: 467-470
Art: Konferenz-Beitrag