Effect of the plasma etching on InAsP/InP quantum well structures measured through low temperature micro-photoluminescence and cathodoluminescence

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Actas:
ECS Transactions

ISSN: 1938-5862,  1938-6737

ISBN: 9781607688907

Año de publicación: 2020

Volumen: 97

Número: 2

Páginas: 43-55

Tipo: Aportación congreso

DOI: 10.1149/09702.0043ECST GOOGLE SCHOLAR lock_openUVADOC editor
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