Raman spectroscopy study of amorphous SiGe films deposited by low pressure chemical vapor deposition and polycrystalline SiGe films obtained by solid-phase crystallization

  1. Olivares, J.
  2. Martín, P.
  3. Rodríguez, A.
  4. Sangrador, J.
  5. Jiménez, J.
  6. Rodríguez, T.
Revista:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Año de publicación: 2000

Volumen: 358

Número: 1

Páginas: 56-61

Tipo: Artículo

DOI: 10.1016/S0040-6090(99)00711-7 GOOGLE SCHOLAR
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