Characterization of the electron density in si+-implanted inp by means of raman scattering by lo-plasma coupled modes
- Ibáñez, J.
- Cuscó, R.
- Blanco, N.
- Gonzalez, G.
- Jiménez, J.
- Artús, L.
Actas:
Materials Research Society Symposium - Proceedings
ISSN: 0272-9172
Año de publicación: 1999
Volumen: 540
Páginas: 97-102
Tipo: Artículo