Inhomogeneous HfO2layer growth at atomic layer deposition

  1. Kasikov, A.
  2. Tarre, A.
  3. Vinuesa, G.
Revista:
Journal of Electrical Engineering

ISSN: 1339-309X,  1335-3632

Año de publicación: 2023

Volumen: 74

Número: 4

Páginas: 246-255

Tipo: Artículo

DOI: 10.2478/JEE-2023-0031 GOOGLE SCHOLAR lock_openAcceso abierto editor
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