Influence of interlayer trapping and detrapping mechanisms on the electrical characterization of hafnium oxide/silicon nitride stacks on silicon

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Zeitschrift:
Journal of Applied Physics

ISSN: 0021-8979

Datum der Publikation: 2008

Ausgabe: 104

Nummer: 9

Art: Artikel

DOI: 10.1063/1.3013441 GOOGLE SCHOLAR