Influence of H on the composition and atomic concentrations of "N-rich" plasma deposited SiOxNyHz films

  1. Del Prado, A.
  2. Andrés, E.S.
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  4. González-Díaz, G.
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  6. Röhrich, J.
  7. Selle, B.
Revista:
Journal of Applied Physics

ISSN: 0021-8979

Año de publicación: 2004

Volumen: 95

Número: 10

Páginas: 5373-5382

Tipo: Artículo

DOI: 10.1063/1.1699525 GOOGLE SCHOLAR lock_openAcceso abierto editor
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