Thermal stability of a-SiNx:H films deposited by plasma electron cyclotron resonance

  1. Martínez, F.L.
  2. Del Prado, A.
  3. Bravo, D.
  4. López, F.
  5. Mártil, I.
  6. González-Díaz, G.
Zeitschrift:
Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

ISSN: 0734-2101

Datum der Publikation: 1999

Ausgabe: 17

Nummer: 4

Seiten: 1280-1284

Art: Artikel

DOI: 10.1116/1.582110 GOOGLE SCHOLAR
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