Activation and deactivation of implanted B in Si

  1. Pelaz, L.
  2. Venezia, V.C.
  3. Gossmann, H.-J.
  4. Gilmer, G.H.
  5. Fiory, A.T.
  6. Rafferty, C.S.
  7. Jaraiz, M.
  8. Barbolla, J.
Zeitschrift:
Applied Physics Letters

ISSN: 0003-6951

Datum der Publikation: 1999

Ausgabe: 75

Nummer: 5

Seiten: 662-664

Art: Artikel

DOI: 10.1063/1.124474 GOOGLE SCHOLAR