Atomistic modeling of deactivation and reactivation mechanisms in high-concentration boron profiles

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Zeitschrift:
Applied Physics Letters

ISSN: 0003-6951

Datum der Publikation: 2003

Ausgabe: 83

Nummer: 20

Seiten: 4166-4168

Art: Artikel

DOI: 10.1063/1.1628391 GOOGLE SCHOLAR
Datenquelle: Scopus