Dose loss and segregation of boron and arsenic at the Si/SiO2 interface by atomistic kinetic Monte Carlo simulations

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Revista:
Materials Science and Engineering B: Solid-State Materials for Advanced Technology

ISSN: 0921-5107

Año de publicación: 2005

Volumen: 124-125

Número: SUPPL.

Páginas: 392-396

Tipo: Aportación congreso

DOI: 10.1016/J.MSEB.2005.08.030 GOOGLE SCHOLAR
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