Influence of single and double deposition temperatures on the interface quality of atomic layer deposited Al2O3 dielectric thin films on silicon

1. Dueñas, S.
2. Castán, H.
3. García, H.
4. De Castro, A.
5. Bailón, L.
6. Kukli, K.
7. Aidla, A.
8. Aarik, J.
9. Mändar, H.
10. Uustare, T.
11. Lu, J.
12. Hårsta, A.