Current capabilities and future prospects of atomistic process simulation

  1. Jaraiz, M.
  2. Castrillo, P.
  3. Pinacho, R.
  4. Rubio, J.E.
Actes:
Technical Digest - International Electron Devices Meeting, IEDM

ISSN: 0163-1918

Any de publicació: 2007

Pàgines: 951-954

Tipus: Aportació congrés

DOI: 10.1109/IEDM.2007.4419110 GOOGLE SCHOLAR
Font de les dades: Scopus