Atomistic simulation of damage accumulation during shallow B and As implant into Si

  1. López, P.
  2. Pelaz, L.
  3. Marqués, L.A.
  4. Santos, I.
  5. Van Den Berg, J.A.
Actas:
2007 Spanish Conference on Electron Devices, Proceedings

ISBN: 9781424408689

Año de publicación: 2007

Páginas: 21-24

Tipo: Aportación congreso

DOI: 10.1109/SCED.2007.383987 GOOGLE SCHOLAR
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