Tailored deposition by LPCVD of non-stoichiometric Si oxides and their application in the formation of Si nanocrystals embedded in SiO2 by thermal annealing
- Morana, B.
- De Sande, J.C.G.
- Rodríguez, A.
- Sangrador, J.
- Rodríguez, T.
- Avella, M.
- Prieto, Á.C.
- Jiménez, J.
ISSN: 0272-9172
ISBN: 9781558999497
Any de publicació: 2007
Volum: 989
Pàgines: 531-536
Tipus: Aportació congrés