Si interstitial contribution of F+ implants in crystalline Si
- López, P.
- Pelaz, L.
- Duffy, R.
- Meunier-Beillard, P.
- Roozeboom, F.
- Van Der Tak, K.
- Breimer, P.
- Van Berkum, J.G.M.
- Verheijen, M.A.
- Kaiser, M.
Aldizkaria:
Journal of Applied Physics
ISSN: 0021-8979
Argitalpen urtea: 2008
Alea: 103
Zenbakia: 9
Mota: Artikulua