Evolution of fluorine and boron profiles during annealing in crystalline Si

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Zeitschrift:
Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

ISSN: 1071-1023

Datum der Publikation: 2008

Ausgabe: 26

Nummer: 1

Seiten: 377-381

Art: Artikel

DOI: 10.1116/1.2794738 GOOGLE SCHOLAR
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