Raman study of multicrystalline silicon wafers produced by the RST process

  1. Tejero, A.
  2. Tupin, E.
  3. González, M.A.
  4. Martínez, O.
  5. Jiménez, J.
  6. Belouet, C.
  7. Baillis, C.
Revista:
Acta Physica Polonica A

ISSN: 1898-794X 0587-4246

Año de publicación: 2014

Volumen: 125

Número: 4

Páginas: 1006-1009

Tipo: Aportación congreso

DOI: 10.12693/APHYSPOLA.125.1006 GOOGLE SCHOLAR lock_openAcceso abierto editor