Fundamental diffusion issues for deep-submicron device processing
- Cowern, N.E.B.
- Jaraiz, M.
- Cristiano, F.
- Claverie, A.
- Mannino, G.
Actas:
Technical Digest - International Electron Devices Meeting
ISSN: 0163-1918
Año de publicación: 1999
Páginas: 333-336
Tipo: Aportación congreso