Structure and Electrical Behavior of Hafnium-Praseodymium Oxide Thin Films Grown by Atomic Layer Deposition

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Revista:
Materials

ISSN: 1996-1944

Año de publicación: 2022

Volumen: 15

Número: 3

Tipo: Artículo

DOI: 10.3390/MA15030877 GOOGLE SCHOLAR lock_openAcceso abierto editor

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