Boron-enhanced-diffusion of boron from ultra-low-energy boron implantation
- Agarwal, A
- Eaglesham, DJ
- Gossmann, HJ
- Pelaz, L
- Herner, SB
- Jacobson, DC
- Haynes, TE
- Erokhin, YE
- Huff, HR (coord.)
- Tsuya, H (coord.)
- Gosele, U (coord.)
ISBN: 1-56677-193-5
Año de publicación: 1998
Páginas: 1232-1240
Congreso: 8th International Symposium on Silicon Materials Science and Technology
Tipo: Aportación congreso