Modeling of boron diffusion in silicon-germanium alloys using Kinetic Monte Carlo

  1. Dopico, I.
  2. Castrillo, P.
  3. Martin-Bragado, I.
Zeitschrift:
Solid-State Electronics

ISSN: 0038-1101

Datum der Publikation: 2014

Ausgabe: 93

Seiten: 61-65

Art: Artikel

DOI: 10.1016/J.SSE.2013.12.007 GOOGLE SCHOLAR

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