Optical spectroscopic study of the SiN/HfO2 interfacial formation during rf sputtering of HfO2
- Toledano-Luque, M.
- Lucía, M.L.
- Del Prado, A.
- San Andŕs, E.
- Mártil, I.
- González-Díaz, G.
Zeitschrift:
Applied Physics Letters
ISSN: 0003-6951
Datum der Publikation: 2007
Ausgabe: 91
Nummer: 19
Art: Artikel