Interface quality study of ECR-deposited and rapid thermal annealed silicon nitride A1/SiNx:H/InP and A1/SiNx:H/ in0.53Ga0.47As structures by DLTS and conductance transient techniques
- Castán, H.
- Dueñas, S.
- Barbolla, J.
- Redondo, E.
- Blanco, N.
- Mártil, I.
- González-Díaz, G.
ISSN: 0026-2714
Año de publicación: 2000
Volumen: 40
Número: 4-5
Páginas: 845-848
Tipo: Artículo