Scavenging effect on plasma oxidized Gd2O3 grown by high pressure sputtering on Si and InP substrates

  1. Pampillón, M.A.
  2. Feijoo, P.C.
  3. San Andrés, E.
  4. García, H.
  5. Castán, H.
  6. Dueñas, S.
Zeitschrift:
Semiconductor Science and Technology

ISSN: 1361-6641 0268-1242

Datum der Publikation: 2015

Ausgabe: 30

Nummer: 3

Art: Artikel

DOI: 10.1088/0268-1242/30/3/035023 GOOGLE SCHOLAR