Cluster ripening and transient enhanced diffusion in silicon

  1. Cowern, N.E.B.
  2. Mannino, G.
  3. Stolk, P.A.
  4. Roozeboom, F.
  5. Huizing, H.G.A.
  6. Van Berkum, J.G.M.
  7. Cristiano, F.
  8. Claverie, A.
  9. Jaraíz, M.
Zeitschrift:
Materials Science in Semiconductor Processing

ISSN: 1369-8001

Datum der Publikation: 1999

Ausgabe: 2

Nummer: 4

Seiten: 369-376

Art: Artikel

DOI: 10.1016/S1369-8001(99)00039-6 GOOGLE SCHOLAR
Datenquelle: Scopus