Use of transient enhanced diffusion to tailor boron out-diffusion

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Zeitschrift:
IEEE Transactions on Electron Devices

ISSN: 0018-9383

Datum der Publikation: 2000

Ausgabe: 47

Nummer: 7

Seiten: 1401-1405

Art: Artikel

DOI: 10.1109/16.848283 GOOGLE SCHOLAR
Datenquelle: Scopus