Atomistic modeling of deactivation and reactivation mechanisms in high-concentration boron profiles

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Revista:
Applied Physics Letters

ISSN: 0003-6951

Año de publicación: 2003

Volumen: 83

Número: 20

Páginas: 4166-4168

Tipo: Artículo

DOI: 10.1063/1.1628391 GOOGLE SCHOLAR
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