Current capabilities and future prospects of atomistic process simulation

  1. Jaraiz, M.
  2. Castrillo, P.
  3. Pinacho, R.
  4. Rubio, J.E.
Actas:
Technical Digest - International Electron Devices Meeting, IEDM

ISSN: 0163-1918

Año de publicación: 2007

Páginas: 951-954

Tipo: Aportación congreso

DOI: 10.1109/IEDM.2007.4419110 GOOGLE SCHOLAR
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