Atomistic modeling of impurity ion implantation in ultra-thin-body Si devices

  1. Pelaz, L.
  2. Duffy, R.
  3. Aboy, M.
  4. Marques, L.
  5. Lopez, P.
  6. Santos, I.
  7. Pawlak, B.J.
  8. Van Dal, M.J.H.
  9. Duriez, B.
  10. Merelle, T.
  11. Doornbos, G.
  12. Collaert, N.
  13. Witters, L.
  14. Rooyackers, R.
  15. Vandervorst, W.
  16. Jurczak, M.
  17. Kaiser, M.
  18. Weemaes, R.G.R.
  19. Van Berkum, J.G.M.
  20. Breimer, P.
  21. Lander, R.J.P.
Konferenzberichte:
Technical Digest - International Electron Devices Meeting, IEDM

ISSN: 0163-1918

ISBN: 9781424423781

Datum der Publikation: 2008

Art: Konferenz-Beitrag

DOI: 10.1109/IEDM.2008.4796744 GOOGLE SCHOLAR