Kinetic Monte Carlo simulations of boron activation in implanted Si under laser thermal annealing

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Aldizkaria:
Applied Physics Express

ISSN: 1882-0778,  1882-0786

Argitalpen urtea: 2014

Alea: 7

Zenbakia: 2

Mota: Artikulua

DOI: 10.7567/APEX.7.021301 GOOGLE SCHOLAR lock_openUVADOC editor

Lotura duten proiektuak

DE LOS DEFECTOS MICROSCÓPICOS INDUCIDOS POR RADIACIÓN A SUS EFECTOS MACROSCÓPICOS A TRAVÉS DE LA SIMULACIÓN MULTI-ESCALA

2012/00055/001

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