Electrical characterization of atomic-layer-deposited hafnium silicate for alternative gate dielectric application

  1. Dueñas, S.
  2. Castán, H.
  3. García, H.
  4. Barbolla, J.
  5. Kukli, K.
  6. Ritala, M.
  7. Leskelä, M.
Actes:
2005 Spanish Conference on Electron Devices, Proceedings

ISBN: 9780780388109

Any de publicació: 2005

Volum: 2005

Pàgines: 45-48

Tipus: Aportació congrés

DOI: 10.1109/SCED.2005.1504302 GOOGLE SCHOLAR
Font de les dades: Scopus