Electrical characterization of atomic-layer-deposited hafnium silicate for alternative gate dielectric application

  1. Dueñas, S.
  2. Castán, H.
  3. García, H.
  4. Barbolla, J.
  5. Kukli, K.
  6. Ritala, M.
  7. Leskelä, M.
Actes de conférence:
2005 Spanish Conference on Electron Devices, Proceedings

ISBN: 9780780388109

Année de publication: 2005

Volumen: 2005

Pages: 45-48

Type: Communication dans un congrès

DOI: 10.1109/SCED.2005.1504302 GOOGLE SCHOLAR
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