Damage, defects and diffusion from ultra-low energy (0-5 keV) ion implantation of silicon
- Agarwal, A.
- Gossmann, H.-J.
- Eaglesham, D.J.
- Pelaz, L.
- Herner, S.B.
- Jacobson, D.C.
- Haynes, T.E.
- Simonton, R.
ISSN: 1369-8001
Ano de publicación: 1998
Volume: 1
Número: 1
Páxinas: 17-25
Tipo: Artigo