Atomistic front-end process modelling: A powerful tool for deep-submicron device fabrication

  1. Jaraiz, M
  2. Castrillo, P
  3. Pinacho, R
  4. Martin-Bragado, I
  5. Barbolla, J
Llibre:
SIMULATION OF SEMICONDUCTOR PROCESSES AND DEVICES 2001
  1. Tsoukalas, D (coord.)
  2. Tsamis, C (coord.)

ISBN: 3-211-83708-6

Any de publicació: 2001

Pàgines: 10-17

Congrés: International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices (SISPAD 01)

Tipus: Aportació congrés

GOOGLE SCHOLAR
Fuente de los datos: WoS