Full composition range silicon oxynitride films deposited by ECR-PECVD at room temperature

  1. Del Prado, A.
  2. Mártil, I.
  3. Fernández, M.
  4. González-Díaz, G.
Revista:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Any de publicació: 1999

Volum: 343-344

Número: 1-2

Pàgines: 437-440

Tipus: Article

DOI: 10.1016/S0040-6090(98)01701-5 GOOGLE SCHOLAR
Font de les dades: Scopus