Full composition range silicon oxynitride films deposited by ECR-PECVD at room temperature

  1. Del Prado, A.
  2. Mártil, I.
  3. Fernández, M.
  4. González-Díaz, G.
Zeitschrift:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Datum der Publikation: 1999

Ausgabe: 343-344

Nummer: 1-2

Seiten: 437-440

Art: Artikel

DOI: 10.1016/S0040-6090(98)01701-5 GOOGLE SCHOLAR
Datenquelle: Scopus