Full composition range silicon oxynitride films deposited by ECR-PECVD at room temperature

  1. Del Prado, A.
  2. Mártil, I.
  3. Fernández, M.
  4. González-Díaz, G.
Aldizkaria:
Thin Solid Films

ISSN: 0040-6090

Argitalpen urtea: 1999

Alea: 343-344

Zenbakia: 1-2

Orrialdeak: 437-440

Mota: Artikulua

DOI: 10.1016/S0040-6090(98)01701-5 GOOGLE SCHOLAR
Datuen iturria: Scopus